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超分辨激光直写光刻装置
行业类别：
光电子创新展
产品范围：
高等院校
应用领域：
光通信、信息处理/存储,消费电子/娱乐,先进制造
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产品介绍:
团队以核心参数超越国外产品、面向产业应用为导向，研制了多套具有一定技术成熟度的激光直写装置。技术团队所研制的激光直写光刻装置特征尺寸相比于国外同类无掩膜激光直写光刻产品具有明显优势。更重要的是，团队针对当前激光直写装置通量无法满足工业大面积应用的问题，研究提出了多通道并行激光直写技术并成功应用于所研制的装置。此外，团队所研制的装置在高精度、无掩膜、高通量的基础上兼容12寸晶圆加工，全面支撑我国芯片、半导体等行业的发展。
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