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光刻胶
行业类别：
光电子创新展
产品范围：
科研院所
应用领域：
科研院所及高校
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产品介绍:
光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的有机化合物溶液。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶在受紫外曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。晶片制造中所用的光刻胶通常以液态临时涂覆在表面，而后被干燥成胶膜。通过曝光来传递设计图案。研材提供紫外光刻胶，电子束光刻胶，微流控应用光刻胶，LIFT-OFF应用光刻胶，临时/永久键合胶，封装用PI等光刻胶。
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