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产品介绍:
该系列设备配备全自动光学膜厚控制，可选射频RF/考夫曼型/霍尔型离子源，高离子电流密度，均匀分布，确保半导体、光学领域的高精度薄膜工艺，搭载双电子枪，多点和环型坩埚镀100层以上薄膜，利用自动蒸镀控制系统实现全自动蒸镀过程。工件架可选钟罩式或行星式，公转/自转/翻转的旋转方式，本公司独有的比率控制法和多点在线监控，可以形成高精度且稳定的光学多层膜。
广泛应用于玻璃/PC/PMMA基片上镀高精度光学多层膜，将多种功能组合，形成品质更加优良的薄膜，镀制UV/IR截止滤光片、装饰膜、带通滤光片。
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