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产品介绍:

1、应用领域：涉及光刻工艺的领域，如集成电路芯片制；FPD（Flat Panel Display，平板显示器；MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。
2、工作原理：
掩膜版是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
3、产品规格：6035 3035 5045 8054等。

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