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产品介绍:
1、应用领域：在微电子领域作为一种非热式镀膜技术。应用于光学薄膜（增透膜）、低辐射玻璃；透明导电玻璃；功能膜、超硬膜、自润滑薄膜；高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜等。
2、工作原理：磁控溅射是物理气相沉积的一种。利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材从而实现薄膜沉积在基材表面。
2、工作原理：磁控溅射是物理气相沉积的一种。利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材从而实现薄膜沉积在基材表面。
