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产品介绍:
系列设备主要是（集）纯离子镀膜技术（PIC）、 高能离子束清洗技术（IONBEAM）和磁控溅射技术（SPUTTER）三种技术融合一体，可镀制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、CU、AU、超级类金刚石膜（TAC、DLC）、装饰膜等非金属及其化合物的膜层和复合膜层。
PIS210-2镀膜机：腔体结构由装载腔室+真空镀膜工艺强势组合而成；镀膜工艺系统由纯离子镀膜（PIC）+离子束清洗（IONBEAM）组合而成。模块化控制，一键式操作即可完成多层镀膜膜沉积，适合光学镜头模具等高端产品的镀膜。
