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单腔或多腔4边或多腔7边ICP刻蚀设备，配置标准的（半）自动化传送平台、成熟的真空解决方案及射频系统，其中多腔可搭配去胶腔。具有操作简单、占用空间小，耗材及运营成本低等优点。刻蚀材料：SiO2 Etch、SiN Etch、Si Etch、SiC etch、Poly Etch、Metal Etch、GaN Etch et al

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