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PECVD系列设备
行业类别：
精密光学展&摄像头技术及应用展
产品范围：
光学镀膜技术及设备
应用领域：
光通信、信息处理/存储,半导体加工/制造,能源,传感及测试测量,照明/显示,科研院所及高校
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产品介绍:
单腔多片或多腔单片的化学沉积设备，均配置成熟的真空解决方案及射频系统。具有操作简单、占用空间小，产能效率高，耗材成本、及运营成本低等优点，可兼容气或液态源各种CVD工艺。广泛应用于4英寸~8英寸硅基/碳化硅／氮化镓／砷化镓等产线的介质膜沉积。
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