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Veeco SPECTOR HT“dual ion beam assisted deposition (DIBAD)”是根据双离子源溅射原理，采用全自动控制的薄膜沉积系统。本系统使用了两个高质量的RF 射频离子源进行沉积以及辅助沉积，同时还能给镀膜的样品提供预清洗。无论在惰性气体或者活性气体（如氧气等）环境中，无灯丝的RF射频离子源以及RF射频中和器都能提供最洁净，最稳定的高能离子源束流。

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