16厘米射频离子源

Veeco生产的 16厘米射频离子源，适用于活性气体或者
惰性气体工作环境。是真空镀膜工艺的理想选择。
这类离子源特别适合在高精度要求的离子源溅射镀膜工艺，
或者辅助沉积工艺中使用。
· 运行功率范围宽
· 水冷系统
· 适合多种工作环境
· 活泼气体或者惰性气体
· 无灯丝结构
· 维护少
· 适合长时间运行
· 稳定性好，效率高
· 精密控制
· 高重复性
· 使用射频中和器
· 提供更长的连续运行时间