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晶圆级大面积激光干涉光刻机
行业类别：
精密光学展&摄像头技术及应用展
产品范围：
光学设备,AR/VR,蓝宝石加工应用
应用领域：
先进制造,半导体加工/制造,传感及测试测量,科研院所及高校
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产品介绍:
HIL系列是面向高校科研单位的晶圆级半自动化激光干涉光刻平台。单次曝光覆盖整个4寸晶圆的大面积一维、二维纳米结构衬底的快速制备，可调周期范围覆盖240nm至1500nm。适用于材料、能源及光电器件的研究、低成本制备纳米级精度结构，有助于对半导体光刻的后续工艺的开发研究，节省外协加工的时间及费用。相比于价格高昂的进口电子束光刻设备，紫荆光刻的激光干涉光刻机的预期定价仅为电子束光刻设备的1/10, 制备效率为电子束光刻机的10倍以上。
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