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随着高功率激光镀膜的发展，在二氧化铪镀膜应用中，除了对其总纯度要求提高之外，对锆在铪中低含量要求也日益提高，由此，我们推出新产品：在保证总纯度>99.99%的基础上，再次降低锆在二氧化铪里面的含量（执行标准 Zr/（Zr+Hf)<0.1%；典型值380-500ppm）,以满足高端客户的要求（可按客户需求提供白色或黑色，颗粒或片）。

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