产品图片:

产品介绍:

HIL系列晶圆级纳米图形系统拥有快速重构装置、图形稳定性调控机制，用于生产纳米级一维二维图案，最小线宽可达40nm，面积可达4寸晶圆尺寸，周期线宽精准调控，是致力于制造高质量晶圆级纳米压印模板或器件的优秀选择，可用于研发及量产的各种纳米图形。实际样品应用在AR/VR光波导镜片、一维二维光栅等，详情欢迎垂询。

展商信息:

展区：

展馆：

展位号：

主营产品：

展商信息

首页咨询

一键分享：

* 姓名：
* 公司：
* 手机：
* 邮箱：
* 洽谈日期：
* 咨询描述：
* 图形验证码：