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晶圆级大面积纳米尺度光栅

行业类别：
精密光学展&摄像头技术及应用展
产品范围：
光学元件加工设备
应用领域：
先进制造,半导体加工/制造,传感及测试测量,科研院所及高校
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产品介绍:

通过激光干涉光刻法制备四寸晶圆级一维、二维纳米光栅，周期从240 nm 至 1.5 μm 周期精度1%，线宽低至40 nm 均匀度±5%，适用于光刻胶衬底、硅衬底、石英衬底。

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