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接近接触式光刻机XCG-i600采用i线UVLED曝光光源，光学系统采用自由曲面配光技术，特殊的消衍射和线条陡直增强技术采用大面积复眼透镜实现高均匀照明，并配备了双目CCD图象对准系统，曝光能量高，聚光角度小，兼容厚胶曝光功能，曝光设定采用自主开发程序控制，带触摸屏面板的MCU控制，操作简便，广泛应用于半导体、微电子、微纳米光学、生物器件和纳米科技领域。

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