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含硅抗反射涂层(Si-Barc):含Si的抗反射涂层(Si-Barc): 位于光刻胶下方，其主要作用是减少光的反射
和驻波效应。在光刻过程中，光线从光刻胶穿过到达基板后会会反射回光刻胶层，造成图案失真和对比度下降。 SiBARC能有效吸收这些反射光，提高光刻图形的对比度和分辨率，这对于55nm及以下至关重要

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