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FHR.Star.600-EOSS® 磁控溅射系统设计用于制造光学干涉涂层。这是一套专门针对多种沉积光学层而开发的真空镀膜系统，可满足对层厚均匀性性和可重复性的最高要求，它选用了向上溅射配置以改善层质量，该溅射系统适用于加工直径达 300 mm 或 280 x 330 x 50 mm3的平整和弯曲基板且具有多个基片加热器。

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