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VCSEL立式氧化炉
行业类别：
信息通信展
产品范围：
半导体设备及制造
应用领域：
先进制造,半导体加工/制造,科研院所及高校
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产品介绍:
设备概述: 在中低温并有一定湿度的环境条件下，使VCSEL器件形成结构致密的氧化层，会具有电学绝缘特性，也可以实现光场限制。 设备特点: 高精度温度控制、高成品率、高可靠性及稳定性 技术指标: 晶圆尺寸:6英寸 温度范围:300°C-500℃C 适用材料:GaAs
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