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HELIOS 系列磁控溅射镀膜设备拥有高速稳定的沉积速率、极高的工艺稳定性、高精度的超薄膜厚控制。可用于超过200层和20μm厚的滤光片，具有最优膜层氧化率、高密度、低损耗的特点。可加工的薄膜器件包括激光滤光片、极高陡度截止滤光片、单/多通道负滤光片、激光反射镜、啁啾镜、偏振分光膜、分束镜、环境光传感器、接近光传感器、高光谱成像、手势和面部识别传感器、晶圆级光学、激光雷达传感器等，应用于消费类电子、生命科学、AR/VR、医疗、计量、基础科研等领域。
