公司主营业务为激光干涉纳米光刻机的设计制造以及提供新型微纳加工应用工艺解决方案。 目前设备上有三款成型产品：晶圆级大面积激光干涉光刻机HIL1000、全自动步进重复式激光干涉光刻机VIL1000和桌面型劳埃镜干涉光刻机CIL1000；分别面向一次曝光大面积纳米图形、多次步进曝光纳米图形及经济型曝光图形三种不同的客户需求。 此外我司提供各种新型微纳加工应用的打样服务、工艺技术咨询、小批量试制等服务。

紫荆光刻技术有限公司成立于 2018 年，是由香港大学、香港创新科技署、香港科学园共同孵化的科技创新企业，专注于激光干涉纳米光刻技术的研发、设备的制造和高端微纳制造解决方案的提供。 我们的研发团队主要来自美国普林斯顿大学、香港大学和清华大学等国际知名院校，在纳米光刻，纳米压印和微纳加工领域有近 20 年的技术积累。公司拥有 4项美国发明专利，3 项 PCT 专利及多项美国专利申请，涵盖创新微纳加工技术及应用。 公司发明的晶圆级激光干涉光刻设备在2022年日内瓦国际发明展上荣获金奖，是消费级AR显示、3D传感器、车载光学产品、微流控、生物芯片等新兴微纳器件快速研发与低成本、高精度制造的不二选择。